晶片包括儲存器是今後工業機械和電子產品所必須有的重要部件，就像煮菜必須放鹽一樣。

因此我們必須加快晶片生產裝置的研發，否則會影響公司以後的發展。

這段時間，你們也都查了資料吧！哪一位給大傢伙說說，光刻機的原理和技術要點，離子注入機的原理和技術要點。”話說完，沈丹青就注視著會場裡的每一個人。

發現他們都躲躲閃閃，生怕讓他點了自己的名。只有一個人例外，那就是劉秘書，此時他已速記好自己的講話，正氣定神閒地望著他。想必是等待自己再發言。

未完待續……

第107章：企業分類

“咳咳”沈丹青重重地咳嗽了兩聲，提醒下大家，以示自己在注意他們。

最後還是洪濤避無可避，才不得不站起來說：“老闆，我在美國接觸過，雖然己是過時的技術了，但萬變不離其宗。原理我想來，不會變。”

起了開頭，他才正式的講解道：

“光刻機又叫掩模對準曝光機，是利用照相機的原理，將電子工程師設計的電路圖分多步驟轉移到矽晶圓的方法。這裡面最難的是鐳射技術和機械控制精度。但這兩點其實我們早已經解決了，不得不說，老闆真是高贍遠囑啊！

我先說，鐳射的重要性。一般光刻機上所用的鐳射都是紫外光，據我到公司以來，才瞭解。紫外光也分等級，普通的紫外光也叫uv，它的光波振幅是365nm，第二種叫深紫外光，也叫duv，又叫準分子極光，它的光波振幅減少到248nm到193nm，是我們早在九二年就請清華大學光電研究所，研究出來的技術。還有一種是我們為了提高奈米級數控機床的控制精度而研究出來的，我們叫極深紫外光又叫euv，它的光波振幅只有10到15nm。

光波振幅越小，意味著光刻精度越高。光波振幅小，能量密度就大，鐳射只要照射一次，就能在光刻膠上留下清晰的圖形。因此，我敢說在鐳射技術方面，我們已經達到了世界領先。

第二個重點，機械控制技術，就不用我說了，我們已是世界領先，機械精度達到了奈米級水平。而且我們的機械控制技術與國外完全不同，在老闆的指點下，我們採用的是非接觸式電磁控制直線電機，完全實現了電訊號控制，最高精度可以達到1奈米，這還是因為我們只採集了這個等級的資料。而據我所知，國外還在採取純機械控制技術，他們還在熱衷於滾珠絲槓和空氣軸承等技術。控制精度至少與我們相差兩個量級。

因此，我們研製光刻機已經沒有技術難度。相反研製離子注入機，卻有不少困難。

離子注入機就利用離子濺射的原理，來對已刻劃好的電晶體進行摻雜，以達到我們需要的電學效能。

這裡面有兩個技術難點，第一是高溫。高溫會令微小的電晶體變形，因此我們需要想辦法讓溫度降下來。第二，就是離子的轟擊力度，力度過大，容易對電晶體造成損傷，力度過少，又達不到我們需要摻雜的目的。”

說到這裡，他就偷看了一下老闆，看他是否滿意自己的講解，發現一切沒問題，他才做總結髮言：

“我就講這麼多，有不足的地方請大家補充。謝謝！”

洪濤說完就坐下了，他是趕鴨子上架，沒有辦法，誰讓他是留美博士，接觸過這方面的知識。如果他一直縮著不出頭，到時老闆也會點他的名，那還不如自己主動，給老闆的心裡留下好印象。

接下來當然沒有誰再發言了，這又不是什麼美差。沈丹青等了幾分鐘，見沒有人再站起來發言，就開始講話：“剛才，洪所長的發言，非常有見地，基本上將重要的注意事項都點明瞭，我就不再多說了。我知道的還沒有你們在座的任何人多，但我有幾點要求。第一就是良品率，這是硬指標。第二就是效率，要有大規模生產的能力。我預計我國今後會用到大量的晶片，我們必須能迅速滿足這個要求。從低端的16位元到中端的32位元，再到將來的高階64位元晶片，我們都要能大量提供。

為了更好的提高你們的積極性，我提早向你們透露一個好訊息。今後我們集團的公司，我規劃為三類公司。

第三類為生產面向社會人群的產品的公司，這一類公司的特點，就是需要有社會影響力，也就是說需要打廣告。

第二類為生產面向企業的產品。如：機床、機械、晶片、零部件、生產線等等。或者是產品設計等虛擬化產品。這類企業的特點，就是生產第三類企業所必須的零部件和其它必須品